重庆芯联微申请沟槽制作方法专利，提升制作沟槽的质量

金融界2024年12月25日消息，国家知识产权局信息显示，重庆芯联微电子有限公司申请一项名为“一种沟槽的制作方法”的专利，公开号 CN 119170496 A，申请日期为2024年8月。 专利摘要显示...

牵着乌龟去散步 2025-03-28 13 #沟槽 #制作方法 #重庆 #提升 #专利